1998

千葉工場にオンラインCVD設備を設置

1997年の地球温暖化防止京都会議において京都議定書が採択されたのを機に、太陽光発電システムが注目を集めるようになった。当社は薄膜型太陽電池用ガラス基板の生産能力を拡大するため、千葉工場にオンラインCVD(Chemical Vapor Deposition:化学気相成長)設備を導入し、1998年11月から稼働を開始した。オンラインCVD設備は、フロートガラスの製造プロセスに CVD法を組み込んだもので、成型時に原料ガスを高温のガラス表面に供給し、熱分解反応により電極膜を形成するラインである。この設備ではLow-Eガラスの成膜も可能で、高性能断熱複層ガラスや真空ガラスの機能と生産性向上に成果を上げている。